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項目背景:半導體迎來第二發展曲線
在生成式人工智能推動下,今年半導體產業大幅反彈。根據多方預測,半導體行業將持續增長,2030年有望突破1萬億美元里程碑。 在我國,面對半導體被‘卡脖子’的嚴峻現實,其發展速度居全球之首,且需求量較大。國家對半導體發展也高度重視,并持續提出支持政策。
企業概況:致力于半導體技術國產化
精量科技服務的某半導體企業致力于國產化替代,專業布局碳化硅工藝,經過多年工藝積累,目前形成以刻蝕工藝設備、薄膜沉積工藝設備等系列產品,主要用于半導體前道工藝階段,如碳化硅、氮化鎵等化合物半導體加工。
工況需求:超供貨周期,保證生產質量
該半導體企業為下游客戶提供薄膜沉積、刻蝕、除膠等設備,用于在基底材料上制作和沉積薄膜圖層,以形成芯片的功能層。在化學氣相沉積(CVD)過程中,需用氣液混合蒸發器將液體源材料蒸發并混合,從而在沉積過程中形成均勻的薄膜。
該半導體企業聯系精量科技,了解精量科技蒸發器產品,以替代某國外品牌,并提出以下需求:
1.供貨周期短且穩定;
2.確保液體完全蒸發;
3.響應速度快,混合蒸發氣體輸出均勻;
4.液體流量精度達到規定標準.
解決方案:供貨周期短,保證生產質量
精量科技了解需求后,根據混合的介質及工況,為客戶設計氣液混合蒸發系統。
系統配置了可控蒸發混合器x1、液體質量流量控制器x1、氣體質量流量控制器x1、溫度控制儀x1。

圖:用于氣液混合蒸發系統的ACU20CEM可控蒸發混合器產品
系統配置如下:
可控蒸發混合器:采用 ACU20CEM型號,氣體最大量程10 ln/min,液體(水)最小量程120g/h。
液體質量流量控制器:ACU20FE 科里奧利質量流量控制器,準確度±0.25% F.S,重復精度0.05% F.S。
氣體質量流量控制器:ACU20FD高精度控制器,準確度±0.5% F.S,重復精度 ±0.2% F.S。
溫度控制儀:可控制最高達200℃~300℃高溫,充分滿足指定介質蒸發條件。
項目收益:助力高效、高質量鍍膜制備
該半導體企業使用精量科技的氣液混合蒸發系統,在整體精度、響應時間、蒸發效率、流量等性能和指標都滿足該企業既有工況和要求。在具體使用過程中,取得了以下收益:
1.保障生產工作正常進行
精量科技近10年的積累,從研發、生產、調試到發貨,建立了高效的供貨系統。其供貨周期短,不影響客戶使用和正常作業。憑借高效的生產和調試程序,能滿足客戶對訂貨時間及數量的要求。
2.確保高質量薄膜工藝
系統均采用精度高的配置設備,充分滿足沉積工藝過程中出氣均勻、蒸發高效、響應時間快的標準要求。
3.助力高效的薄膜生產工作
精量科技的氣液混合蒸發系統整體性能穩定可靠,量程范圍寬,滿足不同作業環境下的需求,助力企業高效穩定生產集成電路薄膜。
在部分半導體以及新材料等工藝中進行精確混合蒸發,以確保沉積出的薄膜質量穩定。精量科技的蒸發系統在氣液混合環節發揮重要作用,已獲國內多家涉及薄膜沉積工藝的企業認可,并與之達成長期戰略合作關系。